据悉，韩国科技部本周四正式表示，韩国科学家已经成功研制出了震惊科技领域重大突破的——2纳米的全球最薄的金属线。 根据english.yna.co.kr的报道,韩国科学家这次研制出的金属线宽度，仅仅只有2纳米，它是由韩国首都首尔的Yonsei大学原子线研发中心所开发研制的；该项研究起始于2003年，费用系由韩国科技部所赞助，其总耗资金额已经达到了214万美元。
据称，迄今为止韩国三星旗下最为先进的16G内存仍然使用着50纳米设计标准，而目前业界所制定的目标，也只是成功过渡到25纳米技术。
对于韩国研制出的2纳米金属线，业内人士分析认为，随着这种超薄金属线技术的面世，未来半导体产品将拥有更大的容量和更快的速度。而据此次研究小组的12位科学家透露，通过此项技术，未来内存芯片的尺寸将会极大程度上被降低，而半导体篆刻工艺也将进入全新的2纳米时代。（第三媒体 2005－11－17）